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Business unit

​태양광

SEABatch XL

n-type 고효율 태양전지에 최적화된 시스템

Batch 수직 장비 중 최대 생산량 (최대 투자 효율) 

SEABatch XL 600 shadow.png

Features & Benefits

다양한 Batch Application

  - Alkaline / Acidic texturing / Oxidation
  - pSC1 / SC2 / O3 cleaning
  - TOPCon, PERC, HIT 

13800

최대 생산량

  - 600 wafers load 
  - up to 12,000 w/h

210

Wafer 크기

최대 M12 (210 x 210mm)

높은 dosing 정확도

+/- 2%

Metal 성분 제로 

완벽 건조

SEAline XL

n-type Inline 시스템에 최적화된 장비 시스템 

SEAline_WAR with shadow.png

Features & Benefits

Inline.png

다양한 Inline application

  - HF/Metal Cleaning
  - RCA & O3 Cleaning
  - Developing / Etching / Striping
  - Electrical deposition

210

Wafer 크기

최대 M12 (210 x 210mm)

Cleaning.png

​다양한 세정 솔루션

  - Roller brush / Disc brush 
  - Bubble jet
  - Ultrasonic / Plasma

Particle.png

파티클(Particle) 제로 설계 

완벽 건조

앵커 1

Glass (Thin film, FPD)

SEAline Glass Cleaner

Solar Thinfilm Glass에 최적화된 시스템

분진제로 설계

SEAline Glass_1.png

Features & Benefits

inline_white.png

다양한 Inline application

  - RCA & O3 Cleaning
  - Developing / Etching 
/ Striping

Cleaning_w.png

다양한 세정 solutions

  - Roller brush / Disc brush
  - Bubble jet
  - Ultrasonic / Plasma

G7_w.png

Glass 크기 

Generation 7

Drying_white.png

완벽 건조

Particle_w.png

파티클(Particle)  제로 설계

반도체

SEAbatch SEMI

Batch 수직 장비 중 최대 생산량 (최대 투자 효율)

자산 2_3x.png

Features & Benefits

Chemical.png

다양한 Batch application

  - RCA / SPM / HFO3 / DIO3 cleaning
  - Developing / Etching / Stripping
  - Oxidation / Special drying

icon3.png

높은 dosing 정확도 

+/- 2ml

Drying.png

완벽 건조

Batch.png

생산 가능 기판

  - Si wafer up to 300mm

  - Glass / Ceramics up to 500x500mm

icon4.png

파티클(Particle) 최소화 

  - RCA cleaning < 30EA
  - Dry < 30EA

Metal 성분 제로

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